物理氣相沉積(PVD)技術(shù)

　　物理氣相沉積技術(shù)(PVD)是利用熱蒸發(fā)、離子濺射或輝光放電等物理過(guò)程，在基體表面沉積所需涂層的技術(shù)。

　　物理氣相沉積可鍍制金屬、合金、氧化物、氮化物、碳化物等膜層；膜層附著能力強(qiáng)，工藝溫度低，一般無(wú)或很少變形。

　　包括真空蒸鍍、離子濺射、離子鍍等。

　?、匐x子濺射鍍膜技術(shù)：

　　離子濺射鍍膜技術(shù)是在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶材表面，通過(guò)粒子的動(dòng)量傳遞打出靶材中的原子及其他粒子，并使其沉積在基體上形成薄膜的技術(shù)。

　　粒子濺射鍍膜可實(shí)現(xiàn)大面積快速沉積，鍍膜密度高，附著性好。

　?、趹?yīng)用：

　　濺射鍍膜材料不受限制，凡能制成靶的材料均可以濺射成膜，廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電子、化學(xué)、光學(xué)、塑料等行業(yè)。

　　離子濺射MoS2用于軸承解決了軸承的潤(rùn)滑問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)了固體自潤(rùn)滑。

　　化學(xué)氣相沉積技術(shù)是一種化學(xué)氣相生長(zhǎng)法，是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物、單質(zhì)氣體供給基體，借氣相作用或在基體表面上的化學(xué)反應(yīng)生成要求的薄膜。

　　可鍍膜層：TiC、TiN、Ti(CN)、Al2O3、ZrO2、TiO2金剛石或類(lèi)金剛石等。

　　利用CVD技術(shù)可實(shí)現(xiàn)鋼球或滾子的陶瓷化，在金屬球或滾子表面形成陶瓷層，提高滾動(dòng)體的耐磨性、耐溫性、潤(rùn)滑性、耐蝕性等性能。如飛機(jī)艙門(mén)軸承球。